uv光催化氧化设备采用世界上较_技术理念，通过_及我公司工程技术人员长期反复的试验，开发研制出的，具有自主知识产权的高科技净化产品可分解工业废气中有毒有害物质，并能达到脱臭、净化效果，经分解后的工业废气，可达到化排放，不产生二次污染，同时达到的作用。
uv光催化氧化设备采用高强度纳米紫外线破坏、分解大分子链为小分子链，再利用臭氧和羟基自由基氧化、催化剂进行催化氧化，使有机物变为水和二氧化碳，以达到去除有机物的目的。
半导体光催化剂大多是n型半导体材料（当前以TiO2使用广泛）都具有区别于金属或绝缘物质的特别的能带结构,即在一个价带和导带之间存在一个禁带。
由于半导体的光吸收阈值与带隙具有式K=1240/Eg（eV）的关系,因此常用的宽带隙半导体的吸收波长阈值大都在紫外区域。当光子能量高于半导体吸收阈值的光照射半导体时,半导体的价带电子发生带间跃迁,即从价带跃迁到导带,从而产生光生电子（e-）和空穴（h+）。此时吸附在纳米颗粒表面的溶解氧俘获电子形成超氧负离子,而空穴将吸附在催化剂表面的氢氧根离子和水氧化成氢氧自由基。而超氧负离子和氢氧自由基具有很强的氧化性,能将绝大多数的有机物氧化至产物CO2和H2O,甚至对一些无机物也能分解。
uv光催化氧化设备性能优势
1、除恶臭：能去除挥发性有机物（VOC）、无机物、硫化氢、氨气、硫醇类等主要污染物，以及各种恶臭味，脱臭效果大大_1993年颁布的恶臭污染物排放标准（GB14554-93）和1996年颁布的《大气污染物综合排放标准》（GB16297-1996）。
2、无需添加_物质：只需要设置相应的排风管道和排风动力，使恶臭/工业废气通过本设备进行脱臭分解净化，无需添加_物质参与化学反应。
3、适应性强：GY-系列恶臭气体（工业废气）UV光解废气净化设备可适应高浓度，大气量，不同工业废气物质的脱臭、净化处理，可每天24小时连续工作，运行稳定可靠。
4、运行成本低：GY-系列恶臭气体（工业废气）UV光解废气净化设备无_机械动作，无噪音，无需专人管理和日常维护，只需作定期检查，本设备能耗低，设备风阻级低＜50pa,可节约大量排风动力能耗。
5、设备占地面积小，自重轻：适合于布置紧凑、场地狭小等条件，设备占地面积＜1平方米/处理10000m3/h风量。
6、进口材料制造：防火性能高，设备性能稳定，采用不锈钢材质，设备使用寿命在十五年以上。
7、防爆认证产品：设备具有、防爆特性，已通过防爆电器产品质量监督检验中心的Ex防爆合格认证（证书编号：CNEx13.0792 X），能广泛应用于采油（气）田、石油化工、制药等防爆要求高的行业。
